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UV真空镀膜工艺技术
  真空镀膜是指在真空的环境之下,将某种金属或金属化合物以气体的形式沉积到基材(通常是非金属材料)表面,因为镀层常为金属薄膜,故之称真空金属化,又是称真空镀膜(主要是取代污染严重的传统水电镀工业)。
  真空镀膜的主要功能是赋予被镀件表面高度金属光泽和镜面效果,在薄膜基材上使膜层具有出色的阻隔性能,提供优异的电磁屏蔽和导电性能及完美的表面装饰效果。目前,正空镀膜的方法有热蒸发镀膜法和磁控溅射镀膜法,金属源有铝,锡,铟,钴,镍,铜,鉻 ,钼,锌,银,金,钛,钨等。
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